真空电镀技术专题,镀膜机,镀膜设备,金属镀膜类技术资料

[A21419-0041-0001] 以木材为基体的表面金属镀膜的抗静电地板的制作方法
[摘要] 本发明涉及以木材为基体的表面金属镀膜的抗静电地板的制作方法。所要解决的技术问题是提供一种使材料既整体保持了原有木质材料的物理力学性能,又满足了抗静电的要求的抗静电地板的制作方法。本发明的制作方法是:原材料准备,包括用作基体的木质材料和用作表面镀膜的金属材料;干燥,使木材的含水率小于10%或绝干处理;加工板坯,加工好木质地板的板坯,并进行砂光处理;涂刷及烘干,采用树脂类涂料对木质地板板坯进行涂刷或喷涂,并进行烘干;蒸镀,将板坯送入真空镀膜装置中进行蒸镀,其真空度控制在5 ×10-2~10-5Pa之间,蒸镀时间在0.5~3小时,表面镀膜金属的厚度在0.2~20μm 之间。本发明可用于装饰装璜领域。
  [A21419-0036-0002] 一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法
[摘要] 本发明为一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法。它以传统的真空热蒸镀成膜方法为基础,引入强电场,使蒸发源里的材料粒子带上电荷,再通过加热蒸发,使这些带电的分子或粒子飞出,飞出的分子或粒子在电磁场的调控下精确飞向基板,最终成膜。与传统的热蒸发相比,本发明能够对蒸发出来的粒子的飞行方向和速度进行精确控制,从而提高所得到的光电子与磁器件的光电磁性能,并带来一系列其他领域的应用。
  [A21419-0065-0003] 生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备

本实用新型属于真空镀膜领域,涉及一种生产彩虹膜或纸的高真空电镀设备。其主要结构包括镀膜的真空工作室和高真空抽取装置,镀膜的真空工作室内用隔板分隔为上、下两室,上室为低真空的卷绕室(3)内有两个收放卷辊(1、 2),四个从动辊(4)和一个冷却管路接氟利昂强制制冷系统的中心水冷滚筒 (5),下室为高真空的蒸镀室(6),蒸发槽的右上角有一个补充蒸发材料的漏斗容器(15),在漏斗容器(15)与蒸发槽(7)连接的送料通道上装有开闭调节阀(20)。使用本实用新型,可大大减少蒸发材料的耗用,简化了彩虹膜或纸制品的加工工艺流程,在经济意义上远远胜过其他类型的喷镀和多层共挤压工艺。
  [A21419-0026-0004] 等离子电镀
[摘要] 本发明公开了在物体表面沉积先进材料膜的方法。该方法包括将待镀物体放置于具有分离的电极对和电解液的电解槽内,电极之一即为该物体,而电解液含待镀材料的来源。在阴极附近的电解液中形成气泡族团,形成方法有多种,包括电解法、沸腾法、气穴法、气液混合法和喷射法。本发明的方法还包括以下步骤,即,在阴极与阳极之间施加一电位差,使得气泡区域产生辉光放电,从而在气泡内形成电离气体分子的等离子体。然后该高能气态等离子体使材料沉积在物体表面形成薄膜。本方法可在大气环境中进行,无需真空设备。电解液具有容纳等离子体的作用。穿过气泡族团的大的电压降促使该区域产生辉光放电,导致待镀材料的分子的能量增加并发生电离。还公开了实施本方法的设备。
  [A21419-0058-0005] 透明的高导电近红外反射镀膜玻璃及其制备方法
[摘要] 本发明公开的透明的高导电近红外反射镀膜玻璃由衬底和镀在衬底上的近红外反射膜层组成,近红外反射膜层的电子载流子浓度在1.0×1021cm-3~6.0× 1021cm-3。其制备采用磁控溅射法,以锌镓合金为靶材,以Ar和O2作为溅射气体,将衬底清洗后放入直流磁控溅射装置反应室中,反应室抽真空,在0.5~3.0Pa 压强下,于25~600℃下进行溅射生长。本发明制备方法简单,易*作、有利于工业化生产。制备的近红外反射镀膜玻璃具有高透明高红外反射的特点,电子载流子浓度在1.0×1021cm-3以上。已达到近红外高反射率玻璃镀膜的技术要求,在遮阳型红外反射玻璃上有巨大的应用,而且也可以作为科研中高端的紫外和红外滤波片。
  [A21419-0056-0006] 塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀方法
[摘要] 一种塑料基材上镀覆高遮蔽防电磁干扰薄膜的溅镀方法,包括如下步骤:喷沙处理步骤,以刚玉沙对塑料基材表面进行喷沙处理;清洗步骤,用超声波清洗已经喷沙处理的塑料基材表面;镀膜步骤,以真空溅镀方法在塑料基材表面镀上一层铜膜,再镀上一层银膜,再镀上一层铜膜,构成一“铜+银+铜”的三明治式镀层结构。采用本发明的溅镀镀膜方法,“铜+银+铜”的三明治式的镀层结构有利于降低膜层的单位阻抗,增强膜层的防电磁干扰效果,而且能在一次溅镀中即达成“铜/银/铜/不锈钢”的镀层结构,其遮蔽效果可达到较理想的70dB以上,有利于提高生产效率。
  [A21419-0051-0007] 印刷镭射电镀膜及其加工工艺
[摘要] 本发明涉及一种粘附到产品上的具有印刷图案、激光镭射和缍葡嘟岷系哪?及其加工工艺,其特征在于印刷镭射电镀膜包含基材、图案印刷层、激光镭射层及真空电镀层,图案印刷层、激光镭射层和真空电镀层依次叠加在基材上;基材可采用聚脂薄膜,基材或可采用简称为PET和BOPP的聚脂薄膜;其加工艺是:第一步是基材的离型处理,可全部离型或部分离型;第二步是进行图案的印刷,印刷材料可采用染料或油墨,印刷时,需进行颜料的单色或多色对版处理;第三步是进行涂布处理;第四步是进行全信息激光压印镭射;第五步是真空电镀;第六步是背胶处理;第七步是烘干处理;采用以上技术方案后,印刷、镭射及电镀三种工艺巧妙地结合,使该膜图案更逼真,变化更丰富,颜色更多彩,达到了单独工艺或两种工艺所无法达到的效果,使产品的品质得到了更进一步的提升。
  [A21419-0002-0008] 制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法
[摘要] 本发明提供用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置以及采用这种装置的真空蒸镀方法。利用同时具有电磁铁和永磁铁的荫罩板安放工作台,在排列时可以使玻璃基片和荫罩板平行配置,使用3轴位置移动装置可在荫罩板安放工作台上正确排列,排列后利用包括永磁铁的荫罩板夹具使玻璃基片和荫罩板贴紧后,使荫罩板安放工作台移到*作位置外,然后在同一容器内进行蒸镀。
  [A21419-0007-0009] 采用电磁控阴极电弧源的镀渗设备
[摘要] 本发明是采用电磁控阴极电弧源的镀渗设备,属于真空镀膜、离子镀膜、离子渗金属领域。其技术特征在于控制电磁线圈的排布方式,在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小。在靶面产生的轴向磁场分量和径向磁场分量在靶材径向不断变化,使场致发射式阴极电弧在靶面上均匀放电。阴极弧斑在靶面上由小圈到大圈周期变化,靶材烧蚀均匀,靶材利用率高、镀膜厚度均匀,渗金属件温度均匀,有效沉积速率高。适于镀渗细长工件、板材、厚涂层等。
  [A21419-0023-0010] 加有电场的有机蒸发镀膜装置
[摘要] 本实用新型属于电致发光技术领域,是一种附加有电场辅助装置的有机蒸发镀膜装置。本实用新型是在普通的真空有机镀膜机上,放入两个金属电极板,金属电极板在衬底基片的下方,并同其垂直。蒸发源在金属电极板的下方,蒸发物在向衬底基片迁移过程中,通过两金属电极板之间的空间,两金属极板的电压为1000伏~3000伏交流电。本实用新型可以提高有机层的聚集密度,降低有机层表面粗糙度,提高迁移率和延长器件寿命。